MEMS
開発受託
サービス
厚膜レジスト SU−8を使った試作例
1.中空構造を形成した例
■フォトレジストパターン断面
シート状の SU−8 をラミネーターを使って貼り
合せる方法によって、従来のスピン塗布法では
できなかった構造、プロセスが可能となりました。
協賛:(株)タカトリ殿、日本化薬(株)殿
2.凹凸表面に形成した例
■フォトレジスト形成面及び断面
■断面拡大
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